眾所周知，純度是靶材的主要性能指標之一。在實際應用中，靶材的純度要求也不同。與普通工業(yè)純鈦相比，高純鈦價格昂貴，應用范圍窄。主要用于滿足一些特殊行業(yè)的需要。那么，高純鈦靶材的主要應用是什么呢？

　　高純鈦靶材的應用主要包括：

　　1.生物材料

　　鈦是一種非磁性金屬，在強磁場中不會被磁化，與人體相容性好，無毒副作用。它可用于制造人體植入裝置。一般醫(yī)用鈦材料未達到高純鈦的水平，但考慮到鈦中雜質(zhì)的溶解，植入物用鈦的純度應盡可能高。高純鈦絲可用作生物結合材料。此外，嵌入導管內(nèi)的鈦注射針也達到高純鈦水平。

　　2.裝飾材料

　　高純鈦具有優(yōu)異的耐大氣腐蝕性，在大氣中長期使用不會變色，確保鈦的原始自然顏色。因此，高純鈦也可用作建筑裝飾材料。此外，近年來，一些高端裝飾品和一些佩戴物品，如手鐲、手表和眼鏡架，都是由鈦制成的，利用了鈦的特性，如耐腐蝕、不變色、長期光澤好、與人體皮膚接觸時不致敏。某些裝飾用鈦的純度已達到5N級。

　　3.吸氣材料

　　作為一種化學性質(zhì)非常活躍的金屬，鈦可以在高溫下與許多元素和化合物發(fā)生反應。高純鈦對活性氣體（如O2、N2、CO、CO2和650℃以上的水蒸氣）有很強的吸附作用。泵壁上蒸發(fā)的Ti膜可形成具有高吸附容量的表面。這一特性使得Ti在超高真空泵系統(tǒng)中被廣泛用作吸氣劑。如果用于升華泵濺射離子泵，極限工作壓力濺射離子泵可降低至10-9pa。

　　4.電子信息材料

　　近年來，隨著半導體技術、信息技術等高科技領域的飛速發(fā)展，高純鈦在濺射靶材、集成電路、DRAMs和平板顯示器中的應用越來越多，對鈦材料的純度要求也越來越高。在半導體超大規(guī)模集成電路工業(yè)中，控制電極采用鈦硅化合物、鈦氮化合物、鎢鈦化合物等作為擴散阻擋層和布線材料。濺射法用于制造這些材料，濺射法中使用的鈦靶材要求高純度，尤其是堿金屬元素和放射性元素的含量非常低。

　　近年來，其配套的濺射設備也開始使用與濺射鈦靶材純度相同的高純鈦。目前，對于4兆比特超大規(guī)模集成電路，鈦的純度要求達到4n5（99.995%）~5N（99.999%），而對于16兆比特第三代超大規(guī)模集成電路，鈦的純度要求達到6N（99.9999%）。